方力钧参展,“替身&分身——版画的基因研究展”开展
2024-09-27 14:58 文化视界
本次展览的七位艺术家皆是1980年代中国版画家在风格和观念自觉之后的典范,他们出身于学院派版画系专业背景,但在后来的艺术创作中呈现出万花筒式的变化,这种变化恰如版画自身的复制、重叠、错位,产生了纷繁复杂的视觉结果。七位艺术家将产生几个关于版画基因研究的角度:苏新平在媒介拓展中将自己的作品进行视觉转换,形成了从版画到油画,再到雕塑的跨越,在此过程中一直以空间作为自己的母题;王华祥形成了自己木刻版画的三十二种刻法的拓展,近年来除了绘画、雕塑、甚至于大地艺术之外,还尝试了人工智能艺术;方力钧在版画的创作工具上做出了大刀阔斧的尝试,此外他还以油画、水墨作品为世人熟知;刘春杰同样从木刻出发,创作了不少装置艺术;应金飞则从版画延展到数字绘画领域,尹朝阳穿越于古今之际和东西之际,以其绘画盛名;杜松儒则专注在抽象水墨,将意象山水拓展至抽象绘画领域。
“替身&分身”揭示的是艺术家与作品之间的关系,以及他们创作的作品与作品之间的关系,艺术作品某种程度上是艺术家精神世界的外在视觉展示,作品即艺术家的“替身”,它们带着艺术家特有的世界观和艺术观,而他们作品仿佛也是艺术家精神世界在不同时间空间情境中的“分身”,而“替身”和“分身”所隐含的还有版画中的印刷和复制属性,因此本次展览故名为“替身&分身:版画的基因研究展”。我们希望通过本次展览呈现七位中国当代版画发展中的样本,提示版画基因在今天的当代艺术发展中的无限可能和生命力。
(文/段少锋,学术主持,2024年9月3日)
展览现场