“芯片刻刀”不再受制于人!我国首产6N级高纯氟化氢,鲁企突破半导体关键材料
2026-07-20 06:54 大众新闻·大众日报

记者7月19日从滨化集团获悉,通过工艺、工程、检测、充装四方面技术突破,其生产的半导体用高纯氟化氢产品品质达到6N等级(99.9999%),处于国内领先、国际一流水平。这标志着我国在半导体关键材料领域打破国外长期垄断,填补了国内高纯氟化氢产能空白。
高纯氟化氢气体如同一把精密“刻刀”,是半导体晶圆制造中干法蚀刻、腔体清洁等关键工艺的核心电子特气,其纯度直接决定晶圆良率。6N级高纯氟化氢是适配28纳米及以下先进制程的必需品。此前,我国6N级高纯氟化氢长期依赖进口,国外企业垄断全球约80%的市场份额。
半导体级氟化氢要求纯度达到99.999%(5N)以上。“从5N到6N,不仅仅是多提纯一次,而是一整套全新纯化体系的建立。”滨化集团特种化学品事业部总经理刘腾介绍,实现6N纯度,关键是攻克氟化氢中痕量水、二氧化碳、含氧有机物等互溶杂质。在精馏段设计多重精馏耦合系统,通过优化塔内件和操作窗口,在特定压力梯度下实现碳氧杂质深度脱除,从根本上控制碳氧等关键杂质。同时,企业自主开发密闭精准取样系统和高灵敏分析方案,将取样过程中的环境本底干扰降至最低,确保分析数据真实反映产品质量,保障了6N指标的稳定可靠。
目前,6N等级高纯氟化氢市场价格在200万元/吨以上。滨化集团已完成50吨/年高纯氟化氢钢瓶充装线的建设与调试,并取得山东省特检院颁发的气瓶充装许可证,已开始向国内外重点客户进行产品推介。
