新华社北京8月3日电

　　集成电路布图设计保护条例

　　（2001年4月2日中华人民共和国国务院令第300号公布 2026年7月23日中华人民共和国国务院令第842号修订）

　　第一章 总则

　　第一条 为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展，制定本条例。

　　第二条 集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，提升我国集成电路布图设计创造、运用、保护、管理和服务水平。

　　第三条 本条例下列用语的含义：

　　（一）集成电路，是指以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；

　　（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；

　　（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者非法人组织；

　　（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；

　　（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

　　对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。

　　第四条 中国自然人、法人或者非法人组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。